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1、鍍層厚度的測(cè)試方法有哪些？

鍍層是指為了好看或儲(chǔ)藏而涂在某些物品上的金屬表面涂上一層塑料，或者一層稀薄的金屬或?yàn)榉略炷撤N貴重金屬，在普通金屬的表面鍍上這種貴重金屬的薄層。復(fù)合鍍層的制備是在鍍液中加入一種或數(shù)種不溶性固體顆粒,使固體顆粒與金屬離子共沉積的過(guò)程,它實(shí)際上是一種金屬基復(fù)合材料。

鍍層厚度測(cè)試檢測(cè)材料表面的金屬和氧化物覆層的厚度測(cè)試。鍍層厚度的測(cè)試方法主要有金相法、X射線(xiàn)熒光法和掃描電鏡測(cè)試法等。

2、鍍層厚度的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)有哪些？

GB/T 6462-2005金屬和氧化物覆蓋層 厚度測(cè)量 顯微鏡法

GB/T 16921-2005金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 X射線(xiàn)光譜法

ASTM B487-85(2013) 用橫斷面顯微觀察法測(cè)定金屬及氧化層厚度的試驗(yàn)方法

ASTM B568-98（2014）用X射線(xiàn)光譜法測(cè)量涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM A754/A754M-18用X射線(xiàn)熒光法測(cè)定金屬涂層在鋼上的重量(質(zhì)量)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM B748-90(2016)用掃描電鏡測(cè)量金屬鍍層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ISO 1463-2003金屬和氧化物覆蓋層 覆蓋層厚度的測(cè)定 顯微鏡法

ISO 3497-2000 金屬覆蓋層 鍍層厚度的測(cè)量 X射線(xiàn)光譜法

DIN EN ISO 3497-2001金屬鍍層 鍍層厚度測(cè)量 X射線(xiàn)光譜測(cè)定法

JIS H8501-1999金屬覆層厚度試驗(yàn)方法

AS 2331.1.1-2001金屬及相關(guān)涂層的試驗(yàn)方法 局部厚度試驗(yàn) 橫截面顯微照相檢驗(yàn)

3、鍍層厚度的測(cè)試要點(diǎn)總結(jié)

（1）GB/T 6462-2005金屬和氧化物覆蓋層 厚度測(cè)量 顯微鏡法

適用范圍：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了運(yùn)用光學(xué)顯微鏡檢測(cè)橫斷面，以測(cè)量金屬覆蓋層、氧化膜層和釉瓷或玻璃搪瓷覆蓋層的局部厚度的方法。

試驗(yàn)原理：從待測(cè)件上切割一塊試樣，鑲嵌后，采用適當(dāng)?shù)募夹g(shù)對(duì)橫截面進(jìn)行研磨、拋光和浸蝕。用校正過(guò)的標(biāo)尺測(cè)量覆蓋層橫斷面的厚度。

影響測(cè)量不確定度的因素有：表面粗糙度、橫斷面的斜度、覆蓋層變形、覆蓋層邊緣倒角、附加鍍層、浸蝕、遮蓋、放大率、載物臺(tái)測(cè)微計(jì)的校正、測(cè)微計(jì)目鏡的校正、對(duì)位、放大率的一致性、透鏡的質(zhì)量、目鏡的方位、鏡筒的長(zhǎng)度

橫斷面的制備：a）橫斷面垂直于覆蓋層；b）橫斷面表面平整，其圖像的整個(gè)寬度應(yīng)在測(cè)量時(shí)所取的放大率下同時(shí)聚焦；c）由于切割和制備橫斷面所引起的變形材質(zhì)要去掉；d）覆蓋層橫斷面上的界面線(xiàn)僅由外觀反差就能明顯地確定或由一條易于分辨的細(xì)線(xiàn)確定。

測(cè)量：1）注意各影響因素；2）校準(zhǔn)顯微鏡及測(cè)量裝置；3）測(cè)量覆蓋層橫斷面圖像寬度時(shí)，沿顯微斷面長(zhǎng)度至少去五點(diǎn)測(cè)量

測(cè)試結(jié)果說(shuō)明：1）所取橫斷面上待測(cè)試樣上的位置；2）每點(diǎn)測(cè)量得厚度，以微米計(jì)；橫斷面上測(cè)量點(diǎn)分布的長(zhǎng)度；3）局部厚度，即厚度測(cè)量值的算術(shù)平均值

（2）GB/T 16921-2005金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 X射線(xiàn)光譜法

適用范圍：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用X射線(xiàn)光譜方法測(cè)量金屬覆蓋層厚度的方法。本標(biāo)準(zhǔn)所用的測(cè)量方法基本屬于測(cè)定單位面積質(zhì)量的一種方法。如果已知覆蓋層材料的密度，則測(cè)量結(jié)果也可用覆蓋層的線(xiàn)性厚度表示。本測(cè)量方法可同時(shí)測(cè)量三層覆蓋層體系，或同時(shí)測(cè)量三層組分的厚度和成分。給定覆蓋層材料的實(shí)際測(cè)量范圍主要取決于被分析的特征X射線(xiàn)熒光的能量以及所允許的測(cè)量不確定度，而且因所用儀器設(shè)備和操作規(guī)程而不同。

試驗(yàn)操作機(jī)理：覆蓋層單位面積質(zhì)量(若密度已知，則為覆蓋層線(xiàn)性厚度)和二次輻射強(qiáng)度之間存在一定的關(guān)系。對(duì)于任何實(shí)際的儀器系統(tǒng)，該關(guān)系首先由已知單位面積質(zhì)量的覆蓋層校正標(biāo)準(zhǔn)塊校正確定。若覆蓋層材料的密度已知，同時(shí)又給出實(shí)際的密度，則這樣的標(biāo)準(zhǔn)塊就能給出覆蓋層線(xiàn)性厚度。熒光強(qiáng)度是元素原子序數(shù)的函數(shù)，如果表面覆蓋層、中間覆蓋層(如果存在)以及基體是由不同元素組成或一個(gè)覆蓋層由不止一個(gè)無(wú)素組成，則這些元素會(huì)產(chǎn)生各自的輻射特征。可調(diào)節(jié)適當(dāng)?shù)臋z測(cè)器系統(tǒng)以選擇一個(gè)或多個(gè)能帶，使此設(shè)備既能測(cè)量表面覆蓋層又能同時(shí)測(cè)量表面覆蓋層和一些中間覆蓋層的厚度和組成。

厚度測(cè)量：1）發(fā)射方法：若測(cè)量覆蓋層的特征輻射強(qiáng)度，則在達(dá)到飽和厚度前，此強(qiáng)度將隨厚度的增加面增加，見(jiàn)圖1a)。使用X射線(xiàn)發(fā)射方法時(shí)，將儀器調(diào)到接收選定的覆蓋層材料的特征能量帶，這樣，薄覆蓋層產(chǎn)生低強(qiáng)度而厚覆蓋層產(chǎn)生高強(qiáng)度。2）吸收方法：若測(cè)能基體的特征輻射強(qiáng)度，則此強(qiáng)度隨厚度增加而減小，見(jiàn)圖1b)。X射線(xiàn)吸收方法利用基體材料的特征能帶。這樣，薄覆蓋層產(chǎn)生高強(qiáng)度而厚覆蓋層產(chǎn)生低強(qiáng)度。在實(shí)際運(yùn)用時(shí)，要注意確保不存在中間層。吸收特怔與發(fā)射特征反向相似。3）比率方法，當(dāng)覆蓋層厚度用基體和覆蓋材料各自的強(qiáng)度比表示時(shí)，則可能使X射線(xiàn)吸收方法和發(fā)射方法結(jié)合。這種強(qiáng)度比率方法的測(cè)量基本同試樣和檢測(cè)器之間的距離無(wú)關(guān)。

影響結(jié)果的因素有：計(jì)數(shù)統(tǒng)計(jì)、校正標(biāo)準(zhǔn)塊、覆蓋層厚度、測(cè)量面尺寸、覆蓋層組成、覆蓋層密度、基體成分、基體厚度、表面清潔度、中間覆蓋層、試樣曲率、激發(fā)能量和激發(fā)強(qiáng)度、檢測(cè)器、輻射程、計(jì)數(shù)率轉(zhuǎn)換為單位面積質(zhì)量或厚度、試樣表面的傾斜度

試驗(yàn)結(jié)果表示：強(qiáng)度值（計(jì)數(shù)率）向單位面積質(zhì)量或厚度的轉(zhuǎn)換。使用適當(dāng)?shù)男?zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)繪制類(lèi)似于圖1的曲線(xiàn)。除非另有規(guī)定，單位面積質(zhì)量的結(jié)果用mg/cm²表示，厚度測(cè)量結(jié)果用μm表示。

（3）ASTM B748-90(2016)用掃描電鏡測(cè)量金屬鍍層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

主要事項(xiàng)：1）可切取橫斷面；2）鍍層、基材顏色有區(qū)別才適用此方法；3）盡量考慮2um以上的鍍層測(cè)試